產品簡介 

廣東惠爾特納米科技有限公司研發生產的水溶性高純度砷化鎵晶片CMP漿料，具有粒徑分散度低、穩定性好、濃度高、可循環使用等特點, 用于藍寶石基片軟拋加工工藝，產品應用中移除率高，表面平整度高、粗糙度低，表面無麻點、腐蝕坑等微缺陷，多項參數達到國際先進水平。該款CMP漿料為2018年新品，主要以速率穩定性好，表面質量高為優勢。該產品用于砷化鎵加工的一步拋光工藝，目前已經在多家砷化鎵加工廠家批量使用，客戶反饋其用于砷化鎵晶片表面高質量平整化加工，表面質量符合工業生產的要求，能夠達到較好的加工效果。

主要特點

    該款砷化鎵晶片CMP漿料采用我公司自主合成生產的高純納米SiO2水溶膠作為磨料，具有生產自動化高，穩定性好的特點。CMP漿料生產過程中采用自動化配制，輔料的添加采用高精度流量計控制，全方位立體攪拌，兩層折疊濾芯過濾，自動灌裝包裝的生產配制方法，因此產品金屬雜質極少、易清洗、無毒無污染，使用中產品移除率高、損傷層小、平整度高，避免晶片出現劃傷。該款CMP漿料中加入了特有的拋光促進劑以及活性物質，能夠在CMP過程中保證質量傳輸的一致性，提高拋光效率。CMP過程中根據需要可以優化不同配比，均能達到**使用效果，與國內外同類產品相比，該產品在拋光過程中具有無結晶，劃傷少，可以循環使用等特點。

主要用途

主要用于砷化鎵晶片的高質量平整化精加工工藝。

基本參數

使用方法

建議漿料和去離子水的配比為1:1-5，也可根據實際要求改變配比。

注意事項

1. CMP漿料使用過程中盡量避免直接暴露，防止污染物進入漿料中造成劃傷。

2. 冬季氣溫較低（<5℃）時，漿料不可放置室外，需存放在恒溫倉庫，一旦發生凝膠將不可使用。

3. 漿料使用過程中需要及時清洗管路和器具，避免漿料長期殘留在管路和容器中造成凝膠，引起晶片表面劃傷。

4. 漿料循環使用時，需要在管口添加過濾裝置，以免發生凝膠而又反復應用造成晶片表面劃傷。

運輸及保存

1、運輸與存放溫度為5-40℃，25℃為**存放溫度，存放時應避光，以避免漿料變質。

2、保質期一年，建議半年內使用。

3、避免金屬、顆粒污染，避免強電解質的接觸。

包裝規格  

25kg/桶、50kg/桶、250kg/桶、1000kg/桶。